エッチング装置

エッチング装置ETCHING EQUIPMENT


●概要・反応性のイオンビームをつかい材料をエッチングする装置です。
●構成・成膜室・試料交換室・ゲートバルブ(成膜室-試料交換間) ・基板冷却駆動機構・スパッタ源・成膜室用真空計・試料交換用真空計・成膜室用排気系・基板搬送機構・基板受渡し機構・ガス導入系・N₂パージライン・架台・制御システム ※ビーム源はついておりません		●オプション・チラー・グローブボックス・グローブボックス受渡し機構
●仕様成膜室　到達真空度：1×10^-5Pa以下　　　　表面処理：G.B.B 　　　　排気系：ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ　　　　　　　　補助バルブ、排気配管部品試料交換室　到達真空度：1×10^-4Pa以下　　　　表面処理：G.B.B 　　　　排気系：ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ　　　　　　　　補助バルブ、排気配管部品

〒559-0011
大阪市住之江区北加賀屋4-3-24


●概要・反応性のイオンビームをつかい材料をエッチングする装置です。
●構成・成膜室・試料交換室・ゲートバルブ(成膜室-試料交換間) ・基板冷却駆動機構・スパッタ源・成膜室用真空計・試料交換用真空計・成膜室用排気系・基板搬送機構・基板受渡し機構・ガス導入系・N₂パージライン・架台・制御システム ※ビーム源はついておりません		●オプション・チラー・グローブボックス・グローブボックス受渡し機構
●仕様成膜室　到達真空度：1×10^-5Pa以下　　　　表面処理：G.B.B 　　　　排気系：ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ　　　　　　　　補助バルブ、排気配管部品試料交換室　到達真空度：1×10^-4Pa以下　　　　表面処理：G.B.B 　　　　排気系：ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ　　　　　　　　補助バルブ、排気配管部品